磁控溅射技术详解
2023-11-04
文章磁控溅射技术是一种常用的表面涂层技术,通过在真空环境下利用磁场和电场的作用,将固体材料溅射成粒径较小的离子或中性原子,沉积在目标物表面形成涂层。本文将从六个方面对磁控溅射技术进行详细阐述,包括工作原理、设备组成、溅射材料、溅射过程、涂层特性以及应用领域。 一、工作原理 磁控溅射技术的工作原理是利用磁场和电场的相互作用,将固体材料溅射成离子或中性原子。将目标物置于真空室中,通过加热或电弧等方式使其达到溅射温度。然后,在真空室中产生磁场和电场,磁场作用下,产生等离子体,而电场则加速等离子体中的