磁控溅射:工业表面处理的高效技术
2024-11-15
磁控溅射是一种广泛应用于工业表面处理的高效技术。它利用高能离子轰击金属靶材,将靶材表面的原子或分子溅射到基板表面形成薄膜。以下是磁控溅射技术的七个方面。 1. 原理 磁控溅射利用磁场将离子束聚焦在靶材上,使得靶材表面的原子或分子被剥离并溅射到基板表面。靶材和基板之间设置反向电场,使得溅射的金属离子能够快速沉积在基板表面形成薄膜。磁控溅射可以制备多种材料的薄膜,如金属、合金、氧化物等。 2. 优点 与其他表面处理技术相比,磁控溅射具有很多优点。它可以制备高质量、高致密的薄膜,具有良好的机械、化学